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產(chǎn)品展示/ Product display

您的位置:首頁  /  產(chǎn)品展示  /  膠體磨  /  高剪切膠體磨  /  XMD三聚氯氰高剪切膠體磨

三聚氯氰高剪切膠體磨

三聚氯氰高剪切膠體磨線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。

  • 產(chǎn)品型號:XMD
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2023-11-12
  • 訪  問  量:1687
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詳細介紹

三聚氯氰高剪切膠體磨

三聚氯氰膠體磨,化工膠體磨,高速膠體磨,高速膠體磨是電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及分散的效果。

三聚氯氰三聚氯氰是一種重要的精細化工產(chǎn)品,具有廣泛的用途,它是農(nóng)藥工業(yè)的中間體,是制造活性染料的原料,可做有機工業(yè)生產(chǎn)的各種助劑,如熒光增白劑、紡織物防縮水劑、表面活性劑等,是橡膠促進劑和國防用于的原料之一,也是醫(yī)藥農(nóng)藥工業(yè)用于合成藥物的原料。三聚氯氰產(chǎn)品在工業(yè)方面,具有廣泛的用途,目前用量較大的是用來生產(chǎn)除草劑 ,農(nóng)藥,活性染料和熒光染料。用三聚氯氰做原料生產(chǎn)的有三嗪系列除草劑,如撲滅津、撲草凈,撲草通,西馬津,西草凈,莠滅凈,莠去津等,農(nóng)藥有敵菌靈等。

三聚氯氰三聚氯氰作為藥物中間體 需要研磨粉碎  研磨粉碎效果

三聚氯氰產(chǎn)品在工業(yè)方面,具有廣泛的用途,目前用量較大的是用來生產(chǎn)除草劑 ,農(nóng)藥,活性染料和熒光染料。用三聚氯氰做原料生產(chǎn)的有三嗪系列除草劑,如撲滅津、撲草凈,撲草通,西馬津,西草凈,莠滅凈,莠去津等,農(nóng)藥有敵菌靈等。

影響研磨粉碎結果的因素有以下幾點

2 膠體磨磨頭頭的剪切速率  (越大,效果越好)

3 膠體磨頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)

4  物料在研磨腔體的停留時間,研磨粉碎時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)

5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
              g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
SID定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

細化作用一般來說要強于均質(zhì)機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。

研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

XMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

以下為型號表供參考:

型號

標準流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標準線速度

m/s

馬達功率

KW

進口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

三聚氯氰高剪切膠體磨

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