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高分子導(dǎo)熱材料研磨分散機(jī)

高分子導(dǎo)熱材料研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專(zhuān)門(mén)研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng),乳液的粒徑分布更窄。

  • 產(chǎn)品型號(hào):XMD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2023-11-13
  • 訪  問(wèn)  量:1498
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詳細(xì)介紹

高分子導(dǎo)熱材料研磨分散機(jī)

導(dǎo)熱膏超高速剪切分散機(jī),導(dǎo)熱膠溶液納米分散機(jī),乙烯基有機(jī)硅樹(shù)脂高剪切分散機(jī),高速分散機(jī),高剪切納米分散機(jī)

近年來(lái)發(fā)展起來(lái)的高分子導(dǎo)熱材料總體可以分為兩類(lèi)非固化的導(dǎo)熱膏和固化的導(dǎo)熱膠/片。其中,導(dǎo)熱膏應(yīng)用工藝簡(jiǎn)單,操作快捷方便,涂裝效率高,容易跟上電子行業(yè)生產(chǎn)節(jié)拍,應(yīng)用計(jì)較廣泛。但是,目前市場(chǎng)上的導(dǎo)熱膏有效壽命普遍較短,在電子器件反復(fù)升溫降溫過(guò)程中小分子逐漸揮發(fā)滲出,除了污染器件外,導(dǎo)熱膏本身因?yàn)槌煞直壤兓饾u干裂粉化脫落,導(dǎo)熱效果降低,嚴(yán)重影響電子產(chǎn)品的使用性能和壽命。

乙烯基有機(jī)硅樹(shù)脂、固化劑、消泡劑、引發(fā)劑、稀釋劑、催化劑

傳統(tǒng)的高速分散機(jī)(轉(zhuǎn)速2930轉(zhuǎn))也即是高速攪拌機(jī),是將攪拌機(jī)插入罐中對(duì)物料進(jìn)行高速攪拌,由于這只是一個(gè)局部的攪拌,剪切中作用力弱、對(duì)物料的剪切頻率少,因此常會(huì)抱團(tuán)、分層、分散不均,影響產(chǎn)品品質(zhì)及性能,而高速納米分散機(jī)是將物料進(jìn)行一個(gè)全局chong分的混合分散剪切,物料從儲(chǔ)料罐中進(jìn)入到工作腔體進(jìn)行360度高頻次的剪切、分散、撞擊、摩擦,因此物料更細(xì)、分散穩(wěn)定性更好。當(dāng)然還有設(shè)備加工經(jīng)度、物料粘稠度、物料原始粒徑、溫度、是否有添加劑等眾多影響因素

高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,在原來(lái)XM2000系列的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級(jí)模塊,加入了一級(jí)分散盤(pán)(均質(zhì)盤(pán)、乳化盤(pán))。從而形成改良型的膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成,我們將這種改良的膠體磨也稱(chēng)為“研磨分散機(jī)”、“研磨均質(zhì)機(jī)”、“研磨乳化機(jī)”。表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

高分子導(dǎo)熱材料高剪切分散機(jī)是一款集研磨和分散一體化的設(shè)備,是一項(xiàng)新的技術(shù)革新。研磨分散機(jī)是將膠體磨(錐體磨)+高剪切分散機(jī)一體化的設(shè)備,先研磨后分散,物料研磨后又瞬間進(jìn)行分散,避免了物料的二次團(tuán)聚。

研磨分散機(jī)設(shè)備結(jié)構(gòu):
第yi級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?nbsp;在對(duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿(mǎn) 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿(mǎn)足預(yù)期的應(yīng)用。

研磨分散機(jī)是由膠體磨分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

第一級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

以下為型號(hào)表供參考:

型號(hào)

標(biāo)準(zhǔn)流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標(biāo)準(zhǔn)線速度

m/s

馬達(dá)功率

KW

進(jìn)口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

高分子導(dǎo)熱材料研磨分散機(jī)

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