粉底研磨分散機，粉底膠體磨，粉底分散機，化妝品分散機，化妝品研磨分散機，化妝品分散設備廠家

粉底的類型很多，粉底液、粉餅裝與散粉裝三種，這些粉底均用于調(diào)整膚色，改善面部質(zhì)感，遮蓋瑕疵，體現(xiàn)質(zhì)感，粉底的數(shù)值越大，顏色越深，使用時與膚色的色差不要過大，應選擇與膚色接近的粉底。

粉底化妝品乳體液是有油、脂、蠟等許多原料混合而成的一種體系，因此混合機是重要的設備。為要制得高質(zhì)量的乳體液，必須選用符合生產(chǎn)要求的乳化設備。研磨分散機是一種剪切力很大的乳化設備，其主要部件是轉(zhuǎn)子和定子，轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速可達7890/13789RPM，這可以通過變頻調(diào)速通過皮帶加速，軸承可以承受140000RPM(轉(zhuǎn)速是普通膠體磨的3-4倍，研磨的力度也是普通膠體磨的3-4倍，這樣研磨的細度更小，效果更好)，可以迅速地將液體、固體或膠體粉碎成微粒，并且混合均勻。

粉底研磨分散機GMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

GMD2000 系列研磨分散設備是SGN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

工作原理：研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。

粉底研磨分散設備是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品：

第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

GMD2000系列研磨分散設備選型表

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